一般講演プログラム（予定）

7月24日（木）

15：20～　　　　　　【一般講演】　　ショートプレゼンテーション（第 1 部）

16：30～　　　　　　【一般講演】　　（ポスター発表）

１．含ノルボルネン分岐鎖状シロキサンの合成およびROMPポリマーとの複合化
（JNC石油化学株式会社）◯大野貴也・渡辺尚樹・藤馬大亮

２．ジエチルフェニレン架橋ポリシルセスキオキサン多孔体の作製と機械的特性評価
（名古屋大学）〇森戸良哉・中西和樹・長谷川丈二

３．長鎖アルカンジオールをリンカーとするQ8DMS架橋重合体の合成とその性質
(東京理科大学) 〇小野里颯汰・今井智大・山本一樹・郡司天博

４．カルバモイル基を有するシランの合成
（東京理科大学1・産業技術総合研究所2）〇山本凌雅1・五十嵐正安2・今井智大1・山本一樹1・郡司天博１

５．ビス(トリエトキシシリル)ベンゼンの加水分解・縮合過程の制御によるフェニレン架橋かご型シロキサン分子の合成
（早稲田大学1・東京大学２）○鈴木麻由1・菊地弥温1・林　泰毅1,2・松野敬成1・下嶋　敦1

６．ゲルマニウム置換かご型シリケートの形成過程の追跡とその有機シリル化
(早稲田大学１・東京大学２)　○筒井瑶子１・村松奏紀1・林　泰毅1,2・松野敬成1・下嶋　敦1

７．アミノプロピル側鎖all-cis環状テトラシロキサンの二量化によるかご型化合物の合成と構造解析
（鹿児島大学1・大阪大学2） ◯清野優弥1・藤内謙光2・金子芳郎1

８．シリカ系3D光造形体の機械特性向上に向けた炭化プロセスの検討
（大阪公立大学1・ソニーグループ株式会社2）〇小北丈太朗1・日名子大輝1・阪本　樹2・岡田健司1・深津亜里紗1・高橋雅英1

９．ジメチルシラノール基を有するシロキサン分子をビルディングブロックとしたアルミノシリケートの合成
（中央大学1・早稲田大学2）〇疋野拓也1,2・望月ひかる2・松野敬成2・黒田一幸2・下嶋　敦2

１０．カーボンドットを修飾した有機シリカモノリスのゲル化挙動とアパタイト形成能
（名古屋大学）〇鈴木一正・竹内裕人・松川祐子・大槻主税

１１．異なるケイ素種を複合化したキトサン多孔質体の神経細胞適合性評価
（九州工業大学）○宗政隆太郎・城﨑由紀

１２．リン酸エステル系多孔質高分子ゲルの作製
（名古屋大学）〇青栁朋奈・中西和樹・長谷川丈二

１３．異なる分子構造を有する多孔質ポリウレタンゲルの機械的特性評価
（名古屋大学）〇岩山凉輔・中西和樹・長谷川丈二

１４．金属含有フェノール樹脂の作製と細孔構造制御
（名古屋大学）〇森海遥・中西和樹・長谷川丈二

１５．ポリフォスファシロキサンの合成とその難燃剤としての性質
（東京理科大学）〇飯島真尋・今井智大・山本一樹・郡司天博

１６．ポリボロシロキサンの合成と木材難燃剤としての性質
（東京理科大学）〇森一希・今井智大・山本一樹・郡司天博

１７．ケイ素種添加によるキトサン-グリセロリン酸ハイドロゲルのゲル化挙動
（九州工業大学）〇奥田航平・城崎由紀

１８．金属イオンにより架橋されたDNAハイドロゲルのネットワーク構造と機械特性
（大阪公立大学）〇野村佳澄・深津亜里紗・岡田健司・髙橋雅英

１９．ダブルネットワークゲルを液相合成の反応場とした酸化チタンの形態制御合成
（北海道大学1・PSL Research University2）〇野口真司1・木山竜二1,2・吉田匡宏1・Maradhana Agung Marsudi1・樫村尚宏1・忠永清治1・龔 剣萍1・野々山貴行1

２０．架橋シリコーンポリマーを用いたダブルネットワークハイドロゲルの作製と評価
（京都大学） 〇大森紅葉・根来大基・堀毛悟史・金森主祥

２１．金属担持シリコーンハイドロゲルの合成と触媒機能
（京都大学）〇倉橋あい・宮本利一・堀毛悟史・金森主祥

２２．芳香族ポリイミドエアロゲルの細孔構造が熱伝導率と機械的強度に及ぼす影響
（京都大学1・ティエムファクトリ株式会社2）〇根来大基1・上岡良太2・堀毛悟史1・金森主祥1

２３．構造発色性と近赤外線反射特性を併せ持つ球状コロイドクラスターの作製
（広島大学1・名古屋大学2・鳥取大学3）〇伊藤かほ1・山中陵弘1・樽谷直紀1・片桐清文1・犬丸　啓1・竹岡敬和2・増井敏行3

２４．単結晶性セリアナノシートの合成と形成メカニズム調査
(名古屋大学)〇山本瑛祐・竹内　希・小林　亮・長田　実

２５．分子性アニオンを含む層状化合物Bi₂O₂Xの液相合成とキャラクタリゼーション
（広島大学）〇松永都夢・樽谷直紀・片桐清文・犬丸　啓

２６．酸窒化物ペロブスカイトナノシートの合成と電子構造評価
（名古屋大学）〇小林　亮・大薮一星・杉本光輝・山本瑛祐・長田　実

２７．細孔径の異なるナノ多孔質ニオブ酸リチウムの合成と圧電触媒性能の比較
（早稲田大学1・中央大学2）〇伊藤萌々花1・岡　大智1・疋野拓也1, 2・下嶋　敦1・松野敬成1

２８．多孔質Ca₂MnO₄多面体粒子の作製
（名古屋大学）〇平野雄大・中西和樹・長谷川丈二

２９．金属塩化物を前駆体に用いた酸化インジウムスズナノ多孔体の細孔径および組成の制御
(早稲田大学) 〇沖田知弘・内田諒真・下嶋　敦・松野敬成

7月25日（金）

10：50～　　　　　　[一般講演]　　ショートプレゼンテーション（第2部）

13：00～14：30　[一般講演]　　ポスター発表

３０．オクタシロキサン含有可溶性ポリマーのホウ素触媒合成と架橋反応による自立膜形成
（鹿児島大学）◯北郷優斗・金子芳郎

３１．DQポリシロキサンを用いた非溶媒誘起相分離法による多孔質膜の作製
(東京理科大学)〇根本萌音・今井智大・山本一樹・郡司天博

３２．マンガン酸ナノフレークゾルを用いて作製した層状マンガン酸塩薄膜のガス応答性
（岐阜大学1・産業技術総合研究所2）安田潤平1・崔弼圭2・増田佳丈2・〇伴 隆幸1

３３．液体状態の金属ガリウムを用いたゾルゲル法による酸化ガリウム薄膜の形成
（石巻専修大学）〇惠原貴志

３４．ゾルゲル法で封止した希土類錯体の発光特性および成膜の評価
（同志社大学）小谷優輔・〇大谷直毅

３５．カルボン酸で化学修飾したチタンオキソオリゴマーからなる新規ガラス薄膜材料の作製と性質
（関西大学）〇片山貴斗・幸塚広光

３６．カルボキシ基含有POSSとエポキシ基含有エチレングリコールを用いた低温硬化型防曇ハードコーティングの開発
（鹿児島大学）〇馬場凜乃音・金子芳郎

３７．トリスペンタフルオロフェニルボラン触媒を用いたポリシロキサン膜の作製
(東京理科大学)　〇佐藤春翔・今井智大・山本一樹・郡司天博

３８．ゾル–ゲル法を経由した擬モスアイ構造を有するYVO₄:Eu³⁺薄膜の作製とH₂O₂応答性の評価
(慶應義塾大学) ◯原川　楽・萩原　学・藤原　忍

３９．シリコーン系コーティング剤　表面OH基の検証の可能性
（株式会社KRI）〇岡本慎一朗・伊藤 玄・福井俊巳　

４０．イオン液体を添加したアルコキシド溶液から作製されるシリカ薄膜の面内応力と限界厚さ
（関西大学）〇荻原隆羅・幸塚広光

４１．イオン液体を添加したアルコキシド溶液から作製されるジルコニア薄膜の面内応力と限界厚さ
（関西大学）〇大塚俊鋭・幸塚広光

４２．Caイオン含有ゾルゲルシリカ膜のラマン分光による構造解析
（日本板硝子株式会社）〇神谷和孝

４３．CoMn₂O₄超微粒子の合成と表面修飾による磁気特性変化
（慶應義塾大学）○大西啓太・海住英生・緒明佑哉・今井宏明

４４．CoFe₂O₄ナノキューブの二次元・三次元集積による磁気特性制御
（慶應義塾大学）〇小野太郎・緒明佑哉・海住英生・今井宏明

４５．ゾル-ゲル法による青色発光グラフェン量子ドット包埋シリカナノコンポジットの作製とその特性評価
（慶應義塾大学）〇斎藤翔太・磯　由樹・磯部徹彦

４６．Photoluminescence Enhancement of 1,2,4-Triaminobenzene Molecules by Modification with Hydrolytically Polycondensed 3-Aminopropyltriethoxysilane
(Keio University) ○Haowei Tan・Yoshiki Iso・Tetsuhiko Isobe

４７．発光型太陽光集光器のためのモノリス型CuInS₂/ZnS量子ドット分散シリカナノコンポジット
（慶應義塾大学）〇矢野祥太郎・磯　由樹・磯部徹彦

４８．ゾル–ゲル/水熱反応の2ステップによるCaTiO₃:Ln³⁺球状マイクロ粒子の合成と酸化還元応答性
（慶應義塾大学）〇有谷　萌・萩原　学・藤原　忍

４９．多元系金属酸化物へのCe添加による酸素欠陥の導入と光触媒特性への影響調査
（豊橋技術科学大学1・CUNY2）〇壷田半蔵1・Andrei Jitianu2・Tan Wai Kian1・武藤浩行1・松田厚範1・河村 剛1

５０．チタン酸に固定化されたナノカーボンの炭化度に依存した光触媒活性
（名古屋大学）◯千野太世・鈴木一正・松川祐子・大槻主税

５１．多孔質多元系金属酸化物の作製と光触媒特性
（豊橋技術科学大学）〇籾山貴帆・壺田半蔵・金築佳郎・Tan Wai Kian・武藤浩行・松田厚範・河村　剛

５２．酸化チタン－貴金属ナノ粒子複合体の高機能・高感度分光への応用
(滋賀県立大学)〇小山奈津季・奥　健夫・秋山　毅

５３．Gd系MOF由来酸化物蛍光体の作製ーMOF分解過程の解析と金属イオン応答性
（慶應義塾大学）〇水谷有咲・萩原　学・藤原　忍

５４．全固体電池用ハードカーボン/NASICON複合負極の作製
（名古屋大学）〇森下ひまり・長谷川丈二

５５．NASICON型Naイオン伝導体のゾル-ゲルプロセス合成とイオン伝導性評価
（豊橋技術科学大学）〇田島龍馬・引間和浩・松田厚範

５６．Al₂O₃ペーストの塗布による多孔質膜の作製と水分駆動型発電デバイスへの応用
（慶應義塾大学）○川内麻友子・萩原　学・藤原　忍

５７．支持電解質濃度によるゾル-ゲルシリカフィルムの電気化学的構造制御
（東京大学1・京都大学2）〇王 昕1・金森主祥2・伊藤喜光1

５８．ゾル－ゲル法により作製されるジルコニア薄膜の微細構造と気孔率に及ぼすコート時の湿度の影響
（関西大学）〇幸塚広光・宮下雄翔・大塚俊鋭